Kiseljenje
1. Svrha: ukloniti oksidni film na površini žice i formirati fosfatni film na metalnoj površini kako bi se smanjile ogrebotine na alatu i umrijeti tijekom izvlačenja žice i hladnog stupa ili procesa oblikovanja.
2. Proces rada:
Kiseljenje: Uronite cijeli element diska u tri spremnika klorovodične kiseline s koncentracijom od 20-25 posto na sobnoj temperaturi na nekoliko minuta, svrha je uklanjanje oksidnog filma s površine žice.
Clearwater: Uklonite produkte korozije klorovodične kiseline na površini žice.
Oksalna kiselina: povećava aktivnost metala kako bi film proizveden u sljedećem koraku bio gušći
Obrada premaza: uronite element diska u fosfat, kontaktirajte površinu čelika s otopinom za kemijsku obradu i otopite čelik kako bi se formirali netopivi spojevi (kao što je Zn2Fe(Po4)2·4H2o), koji prianjaju na površinu čelika i tvore prevlaku.
Clearwater: uklonite ostatke na površini filma.
Mazivo: Budući da koeficijent trenja fosfatnog filma nije jako nizak, ne može dati dovoljno podmazivanja tijekom obrade, ali reagira s metalnim sapunom (kao što je natrijev sapun) da tvori sloj sapuna od tvrdog metala, što može povećati njegovu učinkovitost podmazivanja.
